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半導體面板接觸角測量儀利用機器視覺技術，自動識別基線和液滴輪廓，以拉普拉斯方程為理論基礎進行二次曲線擬合計算，得到接觸角值。減小了重力對液滴形狀的影響，消除了人為測試誤差。對于基線特征明顯的圖片可以實現全自動測試，對于基線特征不明顯的圖片需要手工指定基線位置。

水滴角測量儀利用機器視覺技術，自動識別基線和液滴輪廓，以拉普拉斯方程為理論基礎進行二次曲線擬合計算，得到接觸角值。減小了重力對液滴形狀的影響，消除了人為測試誤差。對于基線特征明顯的圖片可以實現全自動測試，對于基線特征不明顯的圖片需要手工指定基線位置。

水滴角測試儀 利用機器視覺技術，自動識別基線和液滴輪廓，以拉普拉斯方程為理論基礎進行二次曲線擬合計算，得到接觸角值。減小了重力對液滴形狀的影響，消除了人為測試誤差。對于基線特征明顯的圖片可以實現全自動測試，對于基線特征不明顯的圖片需要手工指定基線位置。

接觸角測試儀 利用機器視覺技術，自動識別基線和液滴輪廓，以拉普拉斯方程為理論基礎進行二次曲線擬合計算，得到接觸角值。減小了重力對液滴形狀的影響，消除了人為測試誤差。對于基線特征明顯的圖片可以實現全自動測試，對于基線特征不明顯的圖片需要手工指定基線位置。

接觸角測量儀 利用機器視覺技術，自動識別基線和液滴輪廓，以拉普拉斯方程為理論基礎進行二次曲線擬合計算，得到接觸角值。減小了重力對液滴形狀的影響，消除了人為測試誤差。對于基線特征明顯的圖片可以實現全自動測試，對于基線特征不明顯的圖片需要手工指定基線位置。